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退火温度对结构的影响SnS薄膜的性质

作者(年代):特别嗜Shehab, Najiba A。凡是AL-Hamadni, M.A.Latif

SnS的薄膜厚度、沉积(300海里±0.01)通过热蒸发沉积率(48海里/ s)适当清洗玻璃基板在室温下基质,然后电影在vacuumfor退火温度为200°C (2 h)。电影的结构性质决定使用x射线衍射,扫描电子显微镜(SEM)和原子力显微镜(AFM)。x射线衍射模式表示,电影是聚晶为斜方晶系的结构,与(111)的球迷取向。晶格常数的值、粒度、沉积薄膜的微应变和位错密度计算与退火及其变化。扫描电子显微镜(SEM)和原子forcemicroscopy (AFM)研究揭示surfacemorphology好,平均晶粒尺寸和表面粗糙度增加退火。