摘要

二氧化锡光催化降解红霉素b的研究

作者(年代):Shikha Panchal, Yuvraj Jhala, Anuradha Soni和Ritu Vyas

在本研究中，研究了在半导体二氧化锡存在下的红霉素b的光催化降解。在520nm处用分光光度法观察反应过程。考察了pH、染料浓度、半导体用量、光强等操作变量对降解速率的影响。本文还初步提出了光催化降解染料的机理。