摘要

磁控溅射沉积Ti(C,N)涂层的研究

作者(年代):n.t saoula, A.Z.Ait Djafer

采用13.56MHz射频反应磁控溅射法制备了Ti(C,N)涂层。WeÂ研究了氮气分压和衬底偏压对射频反应磁控溅射制备碳氮化钛涂层性能的影响。用原子力显微镜(AFM)和微压痕对涂层进行了表征。